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nVIDIA与TSMC合作采用0.11um制造工艺

http://www.sina.com.cn 2004/02/26 08:03 驱动之家

　　文/EinG

　　nVIDIA今天宣布，它将是第一个采用TSMC 0.11微米制造工艺的芯片厂商。nVIDIA将会结合TSMC的0.11微米制造工艺来生产自己最新的工程设计，到时候将带来最新的高性能低功耗的显示芯片。

　　TSMC的0.11微米制造工艺基本上是其0.13微米工艺的升级，它还是将使用FSG电介体，相对于0.13微米制造工艺0.11微米工艺将会带来更高的运行速度、晶体管的增加和耗电量

的降低，但是FSG工艺将不会改变。

　　TSMC早在2002年就开始了0.11微米工艺的开发，制造2003年12月工艺才达到可靠的标准。目前，设计规则、设计指导方针、SPICE和静态储存器都已经完成开发。预计到明年第一季度基于0.11微米工艺的产品将会进入市场。