文/deric

　　NVIDIA官方今天正式表示将采用TSMC .11微米工艺技术，在未来大约12个月内，NVIDIA将利用更高的工艺技术打造更复杂更强劲的图形芯片。

　　TSMC的.11微米工艺技术基本是.13微米技术的原型收缩，该工艺将同时应用于高性能和一般应用产品中，采用基于FSG的设计方法。虽然实际产品结果主要取决于设计方案，但TSMC .11微米高工艺在晶体管处理方面有所加强，能够做到速度更高、功耗更低。

　　由于目前的.13微米工艺已经无法适应日趋复杂的GPU设计，除了NVIDIA外，ATI也表示将在适当时候采用TSMC .11微米工艺。预计到2005年1季度才会开始量产工作，而实际产品进入市场则将会等到2005年中期。

　　目前还不知道哪款图形芯片会采用.11微米工艺，但2005年，ATI和NVIDIA将推出R500和NV50显卡，预计将使用该工艺生产。