10nm+++ 英特尔发布制造工艺路线图

10nm+++ 英特尔发布制造工艺路线图
2019年12月12日 05:54 中关村在线

原标题:10nm+++ 英特尔发布制造工艺路线图

近几日,英特尔公布了未来十年工艺路线图,从整个路线图上看,英特尔计划用10年的时间,将制造工艺由10nm升级至1.4nm。期间每两年升级一次,每代会有+和++两个迭代版本,其中10nm稍有不同,其包含10nm++和10nm+++两个迭代版本。

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  按照这个节奏,英特尔将会于2021年实现7nm工艺,其采用EUV技术;2023年实现5nm工艺;2025年实现3nm工艺;2027年实现2nm工艺;2029年实现1.4nm工艺。

英特尔工艺路线图  1.4nm有多么夸张,其相当于12个硅原子所占的空间,这意味着技术难度相比现在的10nm要高出很多。从7nm之后,英特尔没有公布将会采用的技术。

英特尔路线图
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