IC制造创新：关注特殊工艺 强化产业链合作

　　作者：冯晓伟

　　如今，IC(集成电路)制造技术进步的代价越来越大，产业链各方必须通力协作以降低技术创新的成本。本土企业在技术创新的道路上，必须针对自身的实际情况，选择适合自己的发展策略。

　　近年来，全球0.16微米以下工艺产能迅速增长。中国半导体行业协会的统计数字显示，从2003年第一季度到2007年第三季度，0.16微米以下工艺产能由24.8万片/周增至123.7万片/周。为缩短与国际先进企业在技术上的差距，持续投资以增强创新能力是本土集成电路制造企业的必然选择。

　　制造工艺向高端发展

　　集成电路的技术水平通常用微细加工精度和芯片集成度来衡量，前者是就工艺水平而言，后者是指单一芯片中所含有的晶体管数量。目前，世界集成电路大生产水平最高已经达到45纳米，而主流大生产线的技术水平为90纳米，存储器与CPU(中央处理器)的主流制造技术已经分别达到70纳米和65纳米水平。

　　新的集成电路制造技术包括浸液式光刻、铜互连及低k(介电常数)介质材料等，尽管存在大量的挑战，但新技术基本上能与工业发展同步前进。业界已经确信193纳米浸液式光刻在65纳米及45纳米技术中已取得全面成功。浸液式光刻已经顺利地渡过45纳米工艺技术，而对于下一步32纳米技术，是继续发展大数值孔径的浸液式光刻技术，还是采用EUV(极紫外)技术目前尚难下定论。

　　2006年1月，英特尔展示一颗实验性45纳米工艺静态SRAM(静态随机存储器)芯片，该芯片上面是缓存、中间是输入输出等功能电路、下面是测试器，晶体管总数超过10亿。2007年11月，英特尔又发布了采用45纳米工艺、基于高k金属栅技术的高端处理器芯片，这标志着45纳米产品正式投入商用。美国应用材料公司高级顾问莫大康告诉《中国电子报》记者：“在晶体管工艺制造中采用二氧化硅作为栅极绝缘材料，实质上已逼近物理极限。英特尔选择在45纳米节点采用高k介质及金属栅材料，使用一种全新的CMOS(互补型金属-氧化物-半导体)工艺制程结构，可能由此直接打开通向32纳米及22纳米的道路。”