半导体专利侵权样本调查：中微遭应用材料起诉

　　本报记者 黄婕

　　在离开跨国公司创业的第三个年头，中微半导体设备(上海)有限公司(以下简称“中微”)董事长兼首席执行官尹志尧意外地成为了被告：一封来自美国应用材料公司的通知告诉他，中微海外母公司及上海运营公司，被控告涉嫌盗用商业秘密、违反合同和不公平竞争。

　　提起这项指控的不是别人，而是尹志尧的“老东家”。在此之前，作为应用材料重要产品——等离子蚀刻机事业群的主要负责人，尹志尧为这家全球最大的半导体设备供应商服务长达13年之久。

　　应用材料认为，诉讼案中所有的共同被告，都曾在应用材料工作过，尹志尧在辞去应用材料总公司副总裁前，一直管理等离子蚀刻产品团队，而中微副总裁陈爱华之前担任应用材料公司低压化学沉积产品部经理，熟悉相关专利。他们参阅过“大量敏感信息和商业机密”，“蓄意违反对应用材料的多项义务，向中微转移和转化了应用材料的发明和商业秘密”。

　　据记者了解，美国加州北区联邦地方法院已受理这个案件，并将在正式开庭审理之前，于今年2月举行一场听证会。

　　“指控是没有根据的。”尹志尧在接受本报记者采访时显得异常平静，公司自启动以来便非常注重知识产权的保护，聘请了国际一流律师事务所，为公司制定了完整的知识产权保护制度。

　　应用材料中国公司拒绝接受本报的采访。

　　“用左手打右脸”？

　　有趣的是，尹志尧1991年从硅谷的半导体设备制造商LAM跳槽到竞争对手应用材料公司时，也曾被LAM以类似的罪名起诉过，不过三个月后因为缺乏证据LAM公司取消了控诉。尹戏称，他做的事，就是“找到最新的方法用左手打右脸”。

　　尹志尧20世纪40年代生于北京，中科大毕业后先后曾在石油化工部和中科院工作，负责催化剂产品的研究。80年代初，尹志尧来到美国，在加州大学洛杉矶分校修完了自己的物理化学博士学位，随即进入英特尔研发中心应用开发部，开始参与等离子刻蚀机等关键半导体设备的研发工作。

　　1986年，尹志尧加入LAM公司，在研究开发部期间，主导研发了彩虹号氧化物刻蚀机，该款产品成为LAM公司重要的产品。1991年，尹志尧加入应用材料公司，随即在等离子刻蚀事业群任职。2000年，尹志尧成为该事业群总经理，负责16亿美元的生意。

　　2004年1月，尹志尧从应用材料退休。超过20年的半导体从业经验让尹志尧发现了商机。在芯片制造大规模向亚洲转移的同时，作为上游的半导体设备工业却留在了美国本土，在产业日益成熟、成本成为主要驱动力的情况下，尹志尧认为，在亚洲成立半导体设备公司更加贴近市场和客户，将大有可为。

　　尹志尧的想法得到了一批硅谷留学华人的响应，2004年，尹志尧随后协同陈爱华、杜志游等另外十五名来自硅谷的半导体设备制造专家成立了中微。

　　尹志尧告诉记者，目前中微共有250多名员工，40人直接来自硅谷、45人来自亚洲各国，这些人全部都拥有10-20年的半导体设备的经验，参与或领导了20多个美国半导体研发项目，是200多项专利的发明人。他本人在离开应用材料时，也已有至少75项发明专利。

　　在此情况下，中微使用的专利是否侵权，成为应用材料与中微官司的焦点。尹志尧表示，加入应用材料之时，应用材料针对部分雇员签署过一份协议。根据协议，员工离开公司一年内创造的与原工作相关的发明专利，应为公司所有。而此次应用材料起诉的两个专利，一项与他原来在应用材料从事的工作无关，另一项则是根据电磁学及本公司推出的应用，不属于侵权。