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快讯:我国集成电路制造装备研发取得重大突破


http://www.sina.com.cn 2006年09月28日 16:37 新华网

  新华网快讯:国家重大专项“100纳米高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”28日通过项目验收,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得重大突破。

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