美国成为在华第二大专利申请国仅次于日本

http://www.sina.com.cn 2006年02月16日 07:20 北京现代商报

　　据新华社电国家知识产权局副局长李玉光昨日在“中美经贸论坛”上说，2005年美国在中国的专利申请达20395件，其增长为30%，成为继日本之后在中国的第二大专利申请国。

　　“这说明美国的经贸界、企业界对中国的知识产权制度，特别是专利制度的建立和实施以及保护具有信心。”李玉光指出，随着中国加入世贸组织，国内市场逐步开放，中美两国越来越意识到知识产权对两国经贸发展所带来的影响。但他同时说：“两国需要认识到双

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方在知识产权制度上的差异和历史发展以及社会文化的不同，给予相互的沟通和理解。”

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