新浪科技讯 由国际保护知识产权协会中国分会和中国知识产权研究会联合举办的中外知识产权国际论坛将于2006年1月12-13日在北京清华紫光国际交流中心举行。本次论坛主题为从争端走向合作。届时将有众多政府领导，国内外专家，企业领导，以及诸多媒体到会。新浪科技为本次论坛独家网络支持。
加入WTO以来，中国与其他国家贸易摩擦中的知识产权问题空前突显，越来越多的中国
企业被卷入国际知识产权纠纷，诉讼案件接连不断。这些知识产权纠纷往往针对国内某些领域的领头企业进行，目的明确、筹划周密，诉讼的结果无论是判决还是和解，都对被诉企业的销售额和市场前景造成了极为不利的影响，并在全行业引起了较大震动。而国外企业在与中方企业的知识产权纠纷诉讼中也倍感困扰与无奈。面对这些问题，我们必须重新认识和思考：通过怎样的途径才能发挥知识产权在企业发展中的真正作用和最大功效，并能依靠知识产权制度的游戏规则，尊重彼此的知识产权，开展长期技术合作，不断适应知识产权交易和交互许可的模式，防控知识产权纠纷风险，共同探求国际竞争、国际融合、互惠共赢的创新模式，在发展中共同谋求合作，创造更灿烂的前景！
中外企业的知识产权问题需要更多的理解与沟通，从争端走向合作已日益成为双方的共同心声。为此，国际保护知识产权协会中国分会与中国知识产权研究会定于2006年1月12--13 日在中国北京共同主办“从争端走向合作---中外知识产权合作国际论坛”，以加强中外企业间彼此的交流与对话。
本届论坛主要采用现场圆桌座谈形式进行。
论坛将邀请长期从事知识产权工作的中国政府主要官员、专家学者、资深律师、中外知名企业负责人围绕主题并就双方关心的问题做精彩演讲并与参会代表进行现场交流答疑。
谨此，论坛诚挚邀请中外知识产权相关人士踊跃参会，畅所欲言，各抒己见，共同探求知识产权从争端走向合作的全新模式与最优方案！
