【赛迪网讯】英特尔推出了一种新工具的测试版，这种工具可以让英特尔打破芯片业已经走到尽头的预言，取得突破性进展，进一步增强了芯片的工作性能。新工具和目前的光刻技术设备之间的区别是用于电路图案成像的光波长的不同，波长越短，电路越小。

　　该新工具采用远紫外平版印刷技术(EUV)来印制芯片上极小的电路图。电路图的尺寸减小了，芯片生产商就可以在他们的半导体中安装更多的晶体管。而晶体管数量的增加从根本上意味着芯片的性能会发生相应的飞跃。采用远紫外平版印刷技术，芯片生产商可以生产出10GHz或者更高的时钟频率，而目前最快的芯片也只有2.4GHz。

　　摩尔定律是由英特尔创始人之一戈登·摩尔创立的，与芯片制造的进步与发展有着不可分割的关系。根据摩尔定律，随着晶体管尺寸的缩小，每18到24个月之间，一个芯片上晶体管的数量就会增加一倍。但是，近来半导体业担心该定律会在实际的物理重担或经济的重担下而破灭。如果不能制造出尺寸更小或能容纳更多晶体管的芯片，半导体业最终将会停滞不前。

　　英特尔是第一家推出这种设备的厂商，2005年EUV beta将在英特尔诞生，alpha版本是在2001年初完成生产的。英特尔拒绝回答该beta工具的成本。再过5年，采用EUV技术的这种芯片才会投入大规模生产。

　　除英特尔外，AMD、IBM、Infineon、Micron和摩托罗拉也是EUV LLC的成员，EUV LLC是一个与美国政府共同集资开发技术的联盟。该联盟各个成员对该设备具有第一使用权。

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