中芯国际45nm设备进厂 年底试产

http://www.sina.com.cn 2008年06月30日 10:25  驱动之家

  中芯国际45纳米工艺技术再获重大进展,继与IBM签定技术授权合作协议后,中芯45纳米最重要武器浸润式微显影(immersion lithography)设备在29日正式由上海浦东机场,移往中芯上海厂区Fab8,这也是中芯自有第1台45纳米工艺技术设备,预计最快2008年底进入试产阶段。另外,由中芯所代管武汉新芯,之前亦曾进口这款浸润式微显影机种。

  中芯自有第1台45纳米浸润式微显影机种,29日搭乘波音747国际货运包机直接运抵上海浦东国际机场,整台设备重达约40吨,体积逾160立方米,为进行运输,约分装29个温控集装箱,由于设备极度精密,享有超贵宾级待遇和红地毯式全程护送,直接运抵中芯上海厂区Fab8,全程中芯可说小心到家,并未对外公开。

  目前全球供应浸润式微显影机种有3家厂商,分别是荷兰ASML、日商佳能(Canon)及尼康(Nikon),据了解,中芯自用机款与之前武汉新芯所进口机种,都是向ASML采购,价值不斐,由于浸润式微显影机种是半导体工艺中最敏感的1道工艺技术,包括运送、装卸都必须相当小心。

  中芯则透露,上海12英寸厂Fab8中4条生产线首批产品仍将采用90纳米工艺,但亦积极酝酿65、45纳米芯片生产事宜,并计划2008年底试产45纳米芯片。中芯日前已宣布加入IBM 45纳米工艺技术阵营,技术来源已不成问题,加上最关键设备已到位,业界纷揣测中芯是为哪家客户生产45纳米芯片。此外,中芯总裁兼首席执行长张汝京亦承诺2009年6月将引进浸润式光刻机,成为未来中芯量产45纳米芯片有力保证。

  目前在晶圆代工领域,45纳米工艺技术仍以台积电取得领先地位,面对竞争对手来势汹汹,台积电已率先以40纳米工艺技术取代45纳米,并配合完整设计流程8.0、9.0版本,协助客户从设计快速进入成功量产,尽管40纳米已进入量产,但最快2009年才会明显放量,2008年还是以65纳米工艺增长最快,而包括联电、新加坡特许(Chartered)等也紧追在后。

作者:宋丁仪

硬件·台式机每日热点硬件首页 硬件新闻排行榜 台式机首页
发表评论 _COUNT_条
Powered By Google
不支持Flash
·城市对话改革30年 ·新浪城市同心联动 ·诚招合作伙伴 ·企业邮箱畅通无阻
不支持Flash